陶瓷加熱器技術設計原則

在評價陶瓷加熱器系統的優劣時，關鍵還是需看在全部加熱操作時，是不是以輻射加熱為關鍵方式，以傳輸熱對流加熱輔以，輻射加熱占據占比越大，表明系統的性能越好。

經過陶瓷加熱器對大量烘道、烘箱熱能變換效率的測定、理論上的科學研究。在八十年代中期明確提出了辨別輻射烘道的兩個方式：

①測定烘道內空間溫度、元件表層溫度，僅有T空間②改流水作業為靜態烘烤，若未出現漆層不均勻狀況時，才可以被稱作輻射烘道，不然不可以稱之為遠紅外線加熱。

在經歷很多年的科學研究、實踐活動討論全過程后，科學研究工作人員匯總出遠紅外線烘道，烘箱的下列3條設計原理：

①均勻輻射場設計方案：在確保陶瓷加熱器產品工件無論在什么位置上，表層所接納的輻射能為均勻情況。均勻輻射場設計方案是運用輻射光學原理，測算出一組數據信息，即：元件排序方式、元件間距、反射面罩方式、元件與產品工件間距。進而解決元件間距100毫米至350mm，元件與產品工件間距50毫米至400mm的判定設計方案。

②均勻勻溫度場設計方案：為防止烘道內均勻溫度場被毀壞，應讓烘道內的全部溫度差都維持在±5～10℃范疇內。

③均勻溫度控制技術性設計方案：選用通斷式溫度控制而造成 陶瓷加熱器部分溫度起伏大。雙向晶閘管變壓可減少元件的輻射，提升熱對流功效。因而應選用調功器溫度控制，從而讓遠紅外線技術性做到理想化情況。